凯尔迪—引领半导体清洗技术走向深化

在现代科技产业中，半导体是不可或缺的关键组件。从智能手机、计算机到汽车和工业设备，半导体的应用无处不在。然而，制造高质量的半导体并非易事，其中清洗环节是至关重要的一步。

深圳凯尔迪光电科技有限公司自2008年成立以来，专注于清洗设备的研发、生产。经过十余年的努力，凯尔迪成长成为从硅片，集成电路晶圆，先进封装，IC载板到SMT等制程的全系列湿法工艺设备的综合解决方案提供商。目前业务覆盖整个中国大陆，台湾，日本，韩国，东南亚等，在业界客户中享有良好的声誉。

（1）半导体清洗是半导体封装过程中必备的工艺

半导体制造过程中，任何微小的污染都可能导致器件性能下降甚至失效。因此，清洗设备的作用是确保晶圆表面在各个工艺步骤之间保持洁净，从而提高产品的良率和性能。半导体清洗设备的主要功能包括去除颗粒、有机物、金属污染物以及氧化物等杂质。这些设备通常采用多种清洗技术，如化学清洗、物理清洗和等离子体清洗，以满足不同工艺需求。

（2）凯尔迪围绕环保、智能化的清洗设备开展技术攻关

凯尔迪清洗技术主要通过喷淋和等离子清洗的方式，，利用等离子体中的活性粒子与表面污染物发生化学反应，从而达到清洗目的。这种技术特别适用于去除微小颗粒和有机污染物，并且对表面损伤较小。

（3）凯尔迪设备各项指标优良

从清洗效率、表面损伤程度和设备稳定性等方面不断提升设备性能。清洗效率越高，意味着污染物被去除得越彻底；表面损伤程度越低，说明清洗过程对晶圆的损伤越小；设备稳定性越好，生产过程中出现故障的概率就越低。

技术创新引领清洗技术走向深化

随着半导体清洗精度的要求不断提高，以中芯国际、台积电为代表的厂商对于清洗设备和清洗公司工艺的要求越来越高，凯尔迪在原有清洗技术的基础上不断创新，将多种技术创新、融合，从而实现不断引领清洗技术的发展。